一級建築士事務所
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用途:記念館
規模:1,200㎡
構造:S造+RC造 地上2階/地下1階
所在地:東京都新宿区
最優秀案(設計者に選定)
フォルムデザイン一央株式会社にて担当したプロポーザルコンペ提案です。最優秀案として基本・実施設計者に選定され、意匠主任技術者として、基本・実施・監理業務を担当しました。